高新技術企業(yè)認定 增值電信業(yè)務 ISO體系認證 CMMI軟件成熟度認證 專精特新企業(yè)認定 新技術新產品
因專利申請耽誤了產品上市,沒保護了自己開發(fā)的產品造成了競品的侵權,那么怎么才能避免專利申請的誤區(qū)呢?下面快幫云的小編給大家詳細講一下!
其實從專利申請的類型來說,專利申請的誤區(qū)一共可以分為四大類!
誤區(qū)一:論文已經投稿,不能申請專利
專利法新穎性規(guī)定在專利申請日(或優(yōu)先權日)之前未在國內外出版的刊物上公開發(fā)表;所以論文投稿,投稿經審稿接收后才會出版,所以已經投稿的文章還未公開,不會構成專利審查的對比文件,所以可以申請專利。
誤區(qū)二:專利申請后,需要專利授權后才能發(fā)表論文
專利申請?zhí)峤簧暾埲针S即確定,專利申請日即專利提交日,所以在后續(xù)審查過程中對比文件是檢索申請日以前的,所以在專利申請后發(fā)表論文,發(fā)表的論文不會影響專利的新穎性。因此專利申請后論文即可投稿,不需要等專利授權后發(fā)表論文。
誤區(qū)三:我自己在先發(fā)表的文章,不會影響專利授權
任何單位和個人在先發(fā)表的文章,都會構成現(xiàn)有技術,可以作為判斷專利新穎性的對比文件,因此會影響專利授權。
誤區(qū)四:目前這個產品市場上還沒有銷售,可以申請專利
目前市場上沒有銷售可能是其他人已有樣品作為自用未大量銷售,也可能已有文獻公開目前還未生產產品,未保密的自用產品和文獻公開也會構成現(xiàn)有技術,也會影響專利的新穎性。
同樣,市場上已有產品目前還未申請專利的情況下,已有的產品會造成使用公開同樣影響專利的新穎性,不能申請專利。
快幫云友情提示:了解專利申請的誤區(qū)才能擺脫前車之鑒,順利的度過專利申請,做好保護好自己企業(yè)或個人的知識產權不受侵犯!
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